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硅片精密切割操作中會(huì)出現(xiàn)哪些問題硅片切割要求很高,而且切割機(jī)的技術(shù)水平非常優(yōu)秀,才能制作出**的作品。硅片切割本身并不是一件容易的事情,其中會(huì)有問題。我們?cè)诓僮髦幸⒁狻?、雜質(zhì)線痕:由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起,在切片過程中無法完全去除,導(dǎo)致硅片上產(chǎn)生相關(guān)線痕。2、劃傷線痕:由砂漿中的SIC大顆?;蛏皾{結(jié)塊引起。切割過程中,SIC顆粒“卡”在鋼線與硅片之間,無法溢出,造成線痕。表現(xiàn)形式:包括整條線痕和半
介紹半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì),包括**物和無機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。**污染包括光刻膠、**溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等,引起嚴(yán)重漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌
**薄金屬精密切割優(yōu)點(diǎn)激光可以將多種類型的薄金屬(包括金屬板和箔)高精度切割成復(fù)雜的形狀。將聚焦的高能激光光斑與同軸氣體輔助相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)*進(jìn)一步加工的清潔切割。許多行業(yè)都可以使用激光切割薄金屬,例如汽車、電器、電子、能源、醫(yī)療設(shè)備制造等,它的優(yōu)點(diǎn)包括:非接觸式切割,激光不需要磨銳和更換切割刀片。它們還消除了對(duì)薄金屬施加的額外力——防止翹曲和其他損壞。精確控制。聚焦、局部的激光能量可實(shí)現(xiàn)非常窄且切
1. 零件結(jié)構(gòu) 產(chǎn)品加工制造任務(wù)中,有一種電磁閥,在生產(chǎn)過程中遇到了按照傳統(tǒng)方法無法加工的深腔小孔難題——其深腔之深、小孔之小是以往沒有遇到的。該零件的加工難度非常大,如何保證加工質(zhì)量讓我們頗費(fèi)周折。 2. 加工難點(diǎn)分析 深腔小孔精度要求較高: 深腔為φ 16mm,深度達(dá)到了40mm;深腔內(nèi)小孔為φ(0.5±0.02)mm,且小孔**部帶有凸臺(tái)形密封面,外圓φ 1mm,小孔直徑0.5mm、深度5m
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