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金相試樣制備及常見問題 金相分析是研究材料內部組織結構的重要方法,一般用來進行失效分析(FA)、質量控制(QC)、研發(RD)等。而金相試樣制備的目的是獲得材料內部真實的組織結構,需要通過不同的金相試樣制備方法去完成。 一般來說,金相試樣制備的方法有:機械法(傳統意義上的機械制備--磨拋)、電解法(電解拋光和浸蝕)、化學法(化學浸蝕)、化學機械法(化學作用和機械作用同時去除材料)。 金相試樣制備的
失效分析(FA)是一門發展中的新興學科,近年開始從**向普通企業普及。它一般根據失效模式和現象,通過分析和驗證,模擬重現失效的現象,找出失效的原因,挖掘出失效的機理的活動。在提高產品質量,技術開發、改進,產品修復及仲裁失效事故等方面具有很強的實際意義。其方法分為有損分析,無損分析,物理分析,化學分析等 北軟檢測失效分析 失效分析的意義:分析機械零器件失效原因,為事故責任認定、偵破刑事犯罪案件、裁定
Decap開封類型原理及應用 儀準 AA探針臺 轉載請寫明出處Decap即開封,也稱開蓋,開帽,指給完整封裝的IC做*局部腐蝕,使得IC可以暴露出來,同時保持芯片功能的完整無損, 保持 die, bond pads, bond wires乃至lead-frame不受損傷, 為下一步芯片失效分析實驗做準備,方便觀察或做其他測試(如FIB,EMMI),Decap后功能正常。 去封范圍:普通封裝 COB
《半導體IC制造流程》 一、晶圓處理制程 晶圓處理制程之主要工作為在硅晶圓上制作電路與電子組件(如晶體管、電容體、邏輯閘等),為上述各制程中所需技術較復雜且資金投入較多的過程 ,以微處理器(Microprocessor)為例,其所需處理步驟可達數百道,而其所需加工機臺先進且昂貴,動輒數千萬一臺,其所需制造環境為為一溫度、濕度與 含塵量(Particle)均需控制的無塵室(Clean-Room),雖
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