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硒化銦靶材:半導體行業的新寵在半導體材料領域,硒化銦靶材正逐漸嶄露頭角。這種化合物半導體材料因其獨特的物理化學性質,在薄膜沉積工藝中展現出巨大潛力,成為科研人員和工程師們關注的焦點。硒化銦靶材最顯著的特點是具有較高的載流子遷移率。這一特性使其在制備高性能薄膜晶體管時具有明顯優勢,能夠實現更快的電子傳輸速度。同時,材料本身還表現出良好的光響應特性,這為開發新型光電探測器提供了可能。在真空鍍膜過程中
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公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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