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銅鎳鈦合金靶材:高性能濺射鍍膜的關鍵材料 銅鎳鈦合金靶材是物理氣相沉積(PVD)技術中不可或缺的核心材料,廣泛應用于半導體、光學鍍膜和裝飾涂層等領域。這種合金靶材憑借其獨特的成分設計和穩定的濺射性能,成為現代精密鍍膜工藝的重要選擇。 銅鎳鈦合金靶材的核心優勢在于其優異的導電性和耐腐蝕性。銅的高導電性確保了濺射過程中穩定的電流傳輸,鎳的加入提升了合金的機械強度和耐高溫性能,而鈦元素則顯著增強了材料的
鉑靶材:電子顯微鏡背后的"隱形功臣"在電子顯微鏡的核心部件中,有一種材料發揮著不可替代的作用,它就是鉑靶材。這種看似普通的金屬材料,卻是現代顯微技術能夠實現高分辨率成像的關鍵所在。鉑靶材之所以成為電子顯微鏡的理想選擇,首先源于其優異的物理特性。鉑金屬具有極高的熔點和良好的熱穩定性,在電子束持續轟擊下仍能保持結構穩定。其高密度特性使得電子散射效果顯著,有利于產生高質量的X射線信號。更難得的是,鉑具
銀合金靶材:高科技領域的精密材料 銀合金靶材是一種廣泛應用于半導體、光學鍍膜和電子器件制造的關鍵材料。它由銀與其他金屬元素(如銅、鋁、鈀等)按特定比例熔煉而成,具有優異的導電性、導熱性和耐腐蝕性。在真空鍍膜工藝中,銀合金靶材通過磁控濺射或蒸發沉積的方式形成薄膜,用于制造液晶顯示器、太陽能電池、觸摸屏等高端產品。 銀合金靶材的制備工藝要求極高,需經過高純度原料熔煉、精密鑄造、均勻化熱處理以及高精度
高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布:通常,目標材料具有多晶結構,并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材,細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快,而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊內沒有孔,但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數量的孔。 孔的存在會在濺射過程中引起異常放電,從而產生雜質顆粒。 此外,由于其密度低,在
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