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氧化鋯靶材:高性能材料的核心秘密 氧化鋯靶材是薄膜沉積技術中的關鍵材料,廣泛應用于半導體、光學鍍膜、太陽能電池等領域。它的高熔點、優異的化學穩定性以及良好的機械強度,使其成為高端鍍膜工藝的首選。 高熔點與穩定性 氧化鋯的熔點高達2700℃,遠高于普通金屬氧化物,這使得它在高溫環境下仍能保持穩定。在濺射鍍膜過程中,靶材需要承受高能粒子的轟擊,而氧化鋯的耐高溫特性確保了鍍膜過程的穩定性和均勻性。此外,
陽江貴金屬靶材廠,作為一家專業生產高純金屬材料、蒸發鍍膜材料和濺射靶材的企業,憑借著扎實的技術實力和對市場的敏銳洞察,逐漸嶄露頭角,贏得了廣泛的市場認可。公司擁有多名中**專業技術人員和專業化應用實驗室,具備強大的蒸發材料開發能力,為眾多電子、太陽能企業提供優質的貴金屬靶材產品。貴金屬靶材,作為以貴金屬及其合金為原料制成的濺射靶材,具有**的物理和化學特性,被廣泛應用于電子器件、醫療設備、航空航天
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公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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