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高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布:通常,目標材料具有多晶結構,并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數量級上。 對于相同組成的靶材,細顆粒靶材的濺射速率比粗顆粒高純鉻靶的濺射速率快,而晶粒尺寸較小的靶材具有更均勻的沉積膜厚度分布。 通過真空熔融法制造的靶材可以確保塊內沒有孔,但是通過粉末冶金法制造的高純鉻靶很可能包含一定數量的孔。 孔的存在會在濺射過程中引起異常放電,從而產生雜質顆粒。 此外,由于其密度低,在
湛江合金靶材報價湛江合金靶材公司是一家專業生產高純金屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以擁有多名中**專業技術人員和專業化應用實驗室為依托,具有很強的蒸發材料開發能力。在過去的發展歷程中,公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多電子、太陽能企業當中,以較高的性價比成功替代了國外進口產品,贏得了用戶的廣泛好評。合金靶材作為一種重要的濺射靶材,由多
四氧化三鐵靶材:現代科技中的磁性材料瑰寶 四氧化三鐵靶材作為一種重要的功能材料,在多個高科技領域展現出獨特的應用價值。這種材料具有尖晶石結構,由Fe2?和Fe3?共同組成,其特殊的電子結構賦予了它優異的磁性能。 在制備工藝上,四氧化三鐵靶材通常采用粉末冶金法或化學共沉淀法。粉末冶金法通過高純度鐵氧化物粉末的混合、壓制和高溫燒結而成,這種方法能夠精確控制靶材的化學成分和微觀結構。化學共沉淀法則在溶
陽江鎳釩合金靶:開創科技應用的新境界陽江鎳釩合金靶是一種在薄膜制備領域具有廣泛應用的靶材,其在磁記錄、光伏太陽能、觸控顯示、半導體等領域的器件鍍膜中發揮著重要作用。作為生產高屬材料的公司,我們引以自豪地推出這一良好產品,為客戶提供的解決方案。鎳釩合金靶材的制備工藝為復雜,涉及到多種工藝的組合。從真空熔煉、澆注到熱鍛、熱穿孔或熱擠壓成管狀,再到冷拉、退火和機加工,每一個步驟都經過精心設計與嚴格執行,
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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