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氧化銅靶材


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    銅鎳鈦合金靶材:高性能濺射鍍膜的關鍵材料 銅鎳鈦合金靶材是物理氣相沉積(PVD)技術中不可或缺的核心材料,廣泛應用于半導體、光學鍍膜和裝飾涂層等領域。這種合金靶材憑借其獨特的成分設計和穩定的濺射性能,成為現代精密鍍膜工藝的重要選擇。 銅鎳鈦合金靶材的核心優勢在于其優異的導電性和耐腐蝕性。銅的高導電性確保了濺射過程中穩定的電流傳輸,鎳的加入提升了合金的機械強度和耐高溫性能,而鈦元素則顯著增強了材料的

  • 磁控濺射鈷鐵硼合金靶材

    磁控濺射靶材:薄膜制備的"心臟"在真空鍍膜技術領域,磁控濺射靶材扮演著至關重要的角色。這種特殊材料通過高能粒子轟擊釋放出原子,在基底表面沉積形成均勻薄膜。鈷鐵硼合金靶材因其獨特的磁性能,成為制備磁性薄膜的首選材料。磁控濺射過程中,靶材的純度直接影響薄膜質量。高純度靶材能減少雜質摻入,確保薄膜性能穩定。密度同樣是關鍵指標,高密度靶材可以降低濺射過程中的顆粒飛濺,提高鍍膜均勻性。現代制備工藝通過熱等

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