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納米二氧化鈦在陶瓷中的應用前景 在眾多光催化劑中,TiO2半導體催化劑由于具有良好的化學穩定性、光催化活性高和制備成本低等特性而被廣泛應用,是一種理想的光催化自清潔陶瓷制備原料。 TiO2主要有三種晶型轉變形式,分別為銳鈦礦相、金紅石相和板鈦礦相,銳鈦礦相二氧化鈦和板鈦礦相TiO2均屬于亞穩定相,相對來說金紅石相TiO2是比較穩定的存在狀態,在實際應用中銳鈦礦相和金紅石相TiO2應用比較廣泛,而銳
納米二氧化硅拋光液的應用 由于納米二氧化硅成本相對較低,且具有良好的分散性、機械磨損性,高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點,是一種性能優良的CM P技術用的拋光材料.,因而常被用于金屬、藍寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導攝像管等表面精密拋光。 化學機械拋光(CMP)技術是目前各類顯示屏、手機部件、藍寶石、不銹鋼、單晶硅片等領域使用廣泛的表面加工技術,研磨拋光材料是化學機械拋光
納米氧化鋅聚丙烯纖維的抗菌性能研究 隨著科學技術的日益進步和生活水平的提高,人們對紡織品的功能要求也在提高,為了適應市場需求進行了納米氧化鋅聚丙烯抗菌纖維的抗菌性能研究進而開發功能性抗菌纖維。于納米氧化鋅作為抗菌劑既有較強的抗菌性能,又有較高的經濟性,因此我公司選擇納米氧化鋅作為開發功能性抗菌纖維的抗菌添加劑。通過研究發現經改性后的納米氧化鋅和聚丙烯切片混紡,當納米氧化鋅添加到一定量的情況下,其
氧化鈰在拋光上的前景 信息和光電子領域的高速發展促進了化學機械拋光 (CMP)技術的不斷更新。除了設備和材料外 , 高精度表面的獲取更有賴于高效研磨粒子的設計與工業化生產,以及相應的拋光漿料的調配。而且隨著表面加工精度和效率要求的不斷提高,對高效拋光材料的要求也越來越高。二氧化鈰在微電子器件和精密光學元器件表面精密加工中已經得到廣泛應用。 氧化鈰拋光粉(VK-Ce01)拋光粉因具有切削能力強,拋光
公司名: 杭州萬景新材料有限公司
聯系人: 徐進
電 話: 0571-85351209,88852193
手 機: 15867120050,15867120051
微 信: 15867120050,15867120051
地 址: 浙江杭州西湖區杭州市西湖科技園
郵 編: 310011
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