你并不了解小型濺射儀

時(shí)間：2023-11-11作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：127

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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  詞條說明

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  質(zhì)量流量計(jì)為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補(bǔ)償常用的流量計(jì)大多只能夠直接測(cè)量流體的體積，并不能直接測(cè)量質(zhì)量，如果只測(cè)量流體在當(dāng)前工況下的體積時(shí)，質(zhì)量流量計(jì)儀表可以直接顯示出來。但是如果要求流量計(jì)顯示為流體質(zhì)量時(shí)，需要通過計(jì)算即時(shí)采樣的流體體積參數(shù)與密度參數(shù)相乘的積而得出(質(zhì)量=密度X體積)而并非直接測(cè)量出流體的質(zhì)量。質(zhì)量流量計(jì)作為流量?jī)x表，它測(cè)量出來的數(shù)據(jù)一定要準(zhǔn)確，如果要測(cè)量流體的質(zhì)量時(shí)就涉及到一個(gè)問題：就是流體

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• 快速退火爐系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)

  快速退火爐是現(xiàn)代大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝過程中的關(guān)鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質(zhì)的、淺結(jié)制作、生長(zhǎng)高質(zhì)量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術(shù)的飛速發(fā)展,開展快速退火爐系統(tǒng)的技術(shù)研究,對(duì)國(guó)內(nèi)開發(fā)和研究具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應(yīng)用**。? ? ? 本文針對(duì)現(xiàn)代半導(dǎo)體器件退火工藝