離子除臭設備選型表活性氧離子除臭設備TH-LZ

時間：2023-09-19

作者：江蘇祿景環保設備有限公司

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詞條說明
宜興高塍uv光氧催化廢氣處理設備活性炭吸附裝置廠家
一、光催化氧化廢氣除臭設備設備概述1）特定波段（253.7nm）的紫外線對惡臭氣體的分子鏈進行分解，將其大分子結構打碎變成小分子結構。2）特定波段（185nm）波段的紫外線使空氣中的氧分子產生游離態的氧，即活性氧。因游離氧所攜正負電子不平衡，所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。3）在催化劑（TiO２）的作用下，臭氧將打碎的惡臭氣體分子氧化成CO2和H2O等無機物。二、光催化氧化廢氣除臭設備設備應用范
低溫等離子除臭設備免費設計
工業低溫等離子**廢氣處理設備工作原理：當廢氣進入等離子光解一體機凈化設備內時，先經過等離子體化學反應過程，即電子首先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發，同時有部分分子被電離，從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩定產物和熱。(在外加電場的作用下，介質放電產生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離
活性炭吸附箱 UV光催化復合除臭工藝
廢氣處理工藝中的常用活性炭為顆粒狀或蜂窩狀。由于活性炭具有多孔隙結構，表面積大，因此當氣體通過活性炭時，與其充分接觸，則污染物質被截留在孔隙當中，從而達到凈化氣體的目的。衡量活性炭吸附能力的指標之一是碘值，碘值越大則吸附能力越強，處理效果越好。實際的廢氣治理過程中，單一的活性炭吸附工藝會造成活性炭飽和速度過快，處理效果不穩定。因此大多數情況下都是與其他處理工藝組合使用。 1:旋流板塔＋UV光解
無錫宜興等離子uv光氧一體機 uv光氧催化活性炭除臭裝置
一、概述低溫等離子除臭+UV光解一體機分為紫外線光解和等離子分解兩個區，惡臭氣體先經等離子分解區再到UV紫外線光解區，經多級凈化后達標排出。UV紫外線光解區：利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體，如、**胺、、甲硫氫、、四硫醚、、和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、的分子鏈結構，使**或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H