詞條
詞條說(shuō)明
等離子清洗機(jī)的清洗原理等離子清洗機(jī)的清洗原理是在真空腔體里,通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體,通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面,以達(dá)到清洗目的。在這種情況下,等離子處理可以產(chǎn)生以下效果:1、灰化表面**層污染物在真空和瞬時(shí)高溫下的部分蒸發(fā),污染物被高能離子粉碎并被真空帶走。紫外輻射破壞污染物,由于等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米,所以污染層不應(yīng)該太厚。指紋也適用。2、氧化
產(chǎn)品簡(jiǎn)介GD-80型等離子清洗機(jī),PLC+觸摸屏控制,功率密度大,處理效率高,上下料簡(jiǎn)單。高性能等離子發(fā)生器,可激發(fā)更為穩(wěn)定的等離子體。廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍膜、等離子涂覆、等離子活化和表面改性等場(chǎng)合。通過(guò)其處理,能夠改善材料的潤(rùn)濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作、增強(qiáng)粘合力、鍵合力、同時(shí)去除**污染物、油污或油脂等。技術(shù)參數(shù)?產(chǎn)品型號(hào):GD-80?電源:AC220V(±10V
【等離子清洗設(shè)備】等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)
等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三個(gè)大的部分組成,分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個(gè)部分做一個(gè)陳述:一、控制單元國(guó)內(nèi)使用的等離子清洗機(jī),包括國(guó)外進(jìn)口的,控制單元主要分為半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。而控制單元又分為兩個(gè)大的部分:1)電源部分:主要電源頻率有三種,分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz,其中13.56MHz是需要電源匹配器的。2)系統(tǒng)
等離子清洗機(jī)有什么用?(1)對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子,作用到固體樣品表面,不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì),而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用,將樣品表面變粗糙,形成許多微細(xì)坑洼,增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。(2)激活鍵能,交聯(lián)作用等離子體中的粒子能量在0~20eV,而聚合物*部分的鍵能在0~10eV,因此等離子體作用到固體表面后,可
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