分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：208

伯東企業(yè)（上海）有限公司專(zhuān)注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量

  英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量 上海伯東代理的英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量應(yīng)用, 某高校老師通過(guò)原子力顯微鏡進(jìn)行硅片表面形貌測(cè)量和表面粗糙度測(cè)量, 便于后續(xù)進(jìn)行拉曼增強(qiáng). 測(cè)試方法: 選用上海伯東英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進(jìn)行測(cè)試. 將樣品放置在樣品臺(tái), 通過(guò)系統(tǒng)軟件自動(dòng)控制. 原子力顯微鏡測(cè)試條件

• KRI 離子源應(yīng)用于舞臺(tái)燈光濾光片鍍膜

  ?? 舞臺(tái)燈光雖然呈現(xiàn)是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過(guò)在光源前加上特定的光學(xué)濾光片,?對(duì)光進(jìn)行“加工”,?反射和透過(guò)特定的波段,?來(lái)達(dá)到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產(chǎn)生不同顏色.?而在光學(xué)元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), **導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣

• 上海伯東美國(guó) HVA 真空閥門(mén)在真空退火爐中的應(yīng)用

  真空退火爐主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材/ 水脹件/ 醫(yī)療器械/ 不銹鋼釘/ 不銹鋼鏍絲/ 壓鉚件/ 不銹鋼軸承/ 表殼/ 表帶/ / 微型軸/ 自攻自鉆/ 餐具等不銹鋼制品在保護(hù)氣氛控制下進(jìn)行連續(xù)光亮退火/ 固溶/ 退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐.??處理后產(chǎn)品表面光潔, 不氧化, 不脫碳. 具有生產(chǎn)效, 能耗低, 污染少, 操作使用方便, 勞動(dòng)強(qiáng)度低等優(yōu)點(diǎn).也可供金屬材料釬