KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應用

時間：2024-01-12作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：81

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  詞條說明

• 氦質譜檢漏儀 CVD 設備檢漏,滿足第三代半導體芯片量產

  氦質譜檢漏儀?CVD 設備檢漏, 滿足*三代半導體芯片量產上海伯東某客戶是一家以**化合物半導體光電器件相關產品衍生智造為主業的創新型科技公司, **產品是物聯網, 5G 通訊, 安防監控等*三代半導體芯片. 芯片在生產過程中使用 CVD 設備做鍍膜處理, 在鍍膜過程中需要保持設備處于高真空狀態, 這就要求腔體的泄漏率不能過 1E-10 mbrl l/s.CVD?設備檢漏要

• 英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量

  英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量 上海伯東代理的英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量應用, 某高校老師通過原子力顯微鏡進行硅片表面形貌測量和表面粗糙度測量, 便于后續進行拉曼增強. 測試方法: 選用上海伯東英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進行測試. 將樣品放置在樣品臺, 通過系統軟件自動控制. 原子力顯微鏡測試條件

• HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機

  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室,?電子,?進樣室 

• 上海伯東美國 HVA 真空閥門在真空退火爐中的應用

  真空退火爐主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材/ 水脹件/ 醫療器械/ 不銹鋼釘/ 不銹鋼鏍絲/ 壓鉚件/ 不銹鋼軸承/ 表殼/ 表帶/ / 微型軸/ 自攻自鉆/ 餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續光亮退火/ 固溶/ 退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐.??處理后產品表面光潔, 不氧化, 不脫碳. 具有生產效, 能耗低, 污染少, 操作使用方便, 勞動強度低等優點.也可供金屬材料釬