Cryogenic Etch低溫蝕刻設備
- 時間：2025-11-24作者：成都中冷低溫科技有限公司瀏覽：3
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詞條
詞條說明
隨著人工智能（AI）和機器學習應用的爆發式增長，對高性能、高容量內存的需求急劇上升。3D NAND閃存作為關鍵存儲技術，正通過增加堆疊層數來提升容量和性能，而低溫蝕刻技術成為實現這一目標的**創新。近日，**半導體設備成員競相推動3D NAND向1000層目標邁進。 一、AI時代驅動內存技術革新，3D NAND層數成關鍵??數據密集型AI應用需要內存技術實現重大突破，尤其是NA
隨著人工智能（AI）和機器學習應用的爆發式增長，對高性能、高容量內存的需求急劇上升。3D NAND閃存作為關鍵存儲技術，正通過增加堆疊層數來提升容量和性能，而低溫蝕刻技術成為實現這一目標的**創新。近日，**半導體設備成員競相推動3D NAND向1000層目標邁進。 一、AI時代驅動內存技術革新，3D NAND層數成關鍵??數據密集型AI應用需要內存技術實現重大突破，尤其是NA
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