HVA 矩形閥 Load-lock 典型應用

時間：2023-05-23

作者：伯東企業（上海）有限公司

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詞條說明
上海伯東美國 HVA 真空閥門在真空退火爐中的應用
真空退火爐主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材/ 水脹件/ 醫療器械/ 不銹鋼釘/ 不銹鋼鏍絲/ 壓鉚件/ 不銹鋼軸承/ 表殼/ 表帶/ / 微型軸/ 自攻自鉆/ 餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續光亮退火/ 固溶/ 退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐.??處理后產品表面光潔, 不氧化, 不脫碳. 具有生產效, 能耗低, 污染少, 操作使用方便, 勞動強度低等優點.也可供金屬材料釬
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上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性（1 σ）達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導體, 絕緣體, 導體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,
美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用
上海伯東美國?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業, 半導體應用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計提高吞吐量和覆蓋沉積區. 整體易操作, 易維護, 安裝于各類真空設備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機, lo
氦質譜檢漏儀 CVD 設備檢漏,滿足*三代半導體芯片量產
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