HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機

時間：2023-05-23作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：156

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• 上海伯東提供適用于薄膜太陽能電池生產(chǎn)的離子源和真空系統(tǒng)

  ? ? ?在沒有真空的情況下，可再生能源的發(fā)展是不可能的。以光伏發(fā)電（Photovoltaics，PV）為例，這是一種為大家所熟知的能源轉(zhuǎn)化方式，通過太陽能電池將太陽輻射能轉(zhuǎn)化為電子流，進而生成電能。? ? ? ?太陽能電池技術(shù)有許多種類，其中一種主要的技術(shù)是基于薄膜沉積。這種方法的主要優(yōu)點在于，它在制造太陽能電池時消耗的材料較

• HVA 真空閥門應用于E-Beam鍍膜機

  某?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):&nb

• 分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用

  分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用進行工業(yè)催化材料分析上海伯東德國 Pfeiffer 經(jīng)濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 可搭配紅外光譜儀共同使用, 進行工業(yè)催化的材料分析. 上海伯東客戶某大學實驗室, 采用浸漬法進行試驗, 為了提高浸漬量, 需要保證在真空環(huán)境下進行, Pfeiffer?分子泵組?Hicube 80 Eco 是前級泵和分子泵的結(jié)合, 體積小巧, 即插即

• 美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用

  上海伯東美國?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導體應用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護, 安裝于各類真空設備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機, lo