雙工位臥式真空爐

時(shí)間：2014-10-22作者：青島福潤(rùn)德微電子設(shè)備有限公司瀏覽：109

青島福潤(rùn)德微電子設(shè)備有限公司專注于鏈?zhǔn)綘t排,全自動(dòng)擴(kuò)散爐,小型真空爐,加熱爐體,石棉圈,小型馬弗爐等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• led**爐

  ■ LED**爐特點(diǎn)?? ◆ 關(guān)鍵件全部采用進(jìn)口件，具有高可靠性 ◆ 具有可編程的升、降溫功能???????? ◆ 具有斷電報(bào)警、**溫報(bào)警、極限**溫報(bào)警等多種安全保護(hù)功能。 ◆ 具有高抗干擾能力 ◆ 具有多種工藝管路，可供用戶隨意靈活配置?? ?★?賽瑞達(dá)可

• 石英領(lǐng)

  ?石英軟領(lǐng)為進(jìn)口石英纖維棉采用德國(guó)加工工藝制成，用于擴(kuò)散爐和PECVD設(shè)備中爐體和石英管之間的隔熱保溫，解決了以往用保溫棉存在的兩大問(wèn)題：一是保溫棉長(zhǎng)時(shí)間在高溫下出現(xiàn)粉化脫落從而影響工作腔體潔凈度，二是手動(dòng)堵塞保溫棉不均勻，影響工作區(qū)溫度穩(wěn)定性和均勻性。本產(chǎn)品可長(zhǎng)期使用在高溫下，不粉化，不變形，不硬化，不氧化，防震，防腐蝕。

• LPCVD設(shè)備

  LPCVD設(shè)備維修及應(yīng)用 低壓化學(xué)氣相淀積設(shè)備使用與維護(hù)技術(shù) LPCVD是大規(guī)模集成電路(LSI)和**大規(guī)模集成電路(VLSI)以及半導(dǎo)體光電器件工藝領(lǐng)域里的主要工藝之一。 PCVD技術(shù)可以提高淀積薄膜的質(zhì)量，使膜層具有均勻性好、缺陷密度低、臺(tái)階覆蓋性好等優(yōu)點(diǎn)，成為制備Si 3N4薄膜的主要方法。熱壁LPCVD設(shè)備使用過(guò)程中出現(xiàn)薄膜的淀積速率、薄膜的均勻性、片內(nèi)均勻性、片間均勻性不理想等問(wèn)題，提

• 太陽(yáng)能擴(kuò)散爐

  太陽(yáng)能電池?cái)U(kuò)散工藝及其設(shè)備 太陽(yáng)能電池?cái)U(kuò)散工藝及其設(shè)備 ????技術(shù)方案是：一種太陽(yáng)能電池?cái)U(kuò)散工藝，在太陽(yáng)能電池?cái)U(kuò)散工藝中通控制抽氣排風(fēng)壓力，使抽氣排風(fēng)壓力這個(gè)參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風(fēng)壓力這個(gè)參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風(fēng)壓力的穩(wěn)定導(dǎo)致辭磷在硅片中的注入濃度穩(wěn)定，使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩(wěn)定，在后道的燒結(jié)中可以匹配出高效的太陽(yáng)能電池。抽氣排風(fēng)壓力通過(guò)在機(jī)臺(tái)排