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光學(xué)玻璃的生產(chǎn)加工方法?


    北京華諾恒宇光能科技有限公司專注于北京晶圓切割,北京濾光片,北京生物芯片等

  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 解讀光學(xué)玻璃的制造流程

    原料的混和電子光學(xué)玻璃跟據(jù)光學(xué)特點(diǎn)可以分成約230種。生產(chǎn)制造電子光學(xué)玻璃時(shí)采用的原料大概有70種。為生產(chǎn)制造一種電子光學(xué)玻璃一般應(yīng)用5-15種原料以數(shù)十kg或數(shù)百公斤為企業(yè)混和。關(guān)鍵的原料有硅礦、硼酸、氧化鑭、氧化鈰、空氣氧化鈮、氧化鋯陶瓷、鋇、鉀等高純?cè)稀H刍旌秃玫脑戏胚M(jìn)石英坩堝里開(kāi)展**次熔化,將其融化成玻璃。將通過(guò)粗熔解的玻璃放進(jìn)鉑金鉗鍋制宣布熔解爐里開(kāi)展熔解。熔化溫度達(dá)到1200-

  • 半導(dǎo)體晶圓切割液配方技術(shù)

    半導(dǎo)體晶圓切割液配方技術(shù)晶圓是硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓,是制造IC的基本原料。硅晶圓是指硅元素加以純化(99.999%),接著是將這些純硅制成長(zhǎng)硅晶棒,成為制造積體電路的石英半導(dǎo)體的材料,經(jīng)過(guò)照相制版、研磨、拋光、切片等程序,將多晶硅融解拉出單晶硅晶棒,然后切割成一片一片薄薄的晶圓。在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能的集成電路產(chǎn)品。半

  • 【光學(xué)鍍膜】真空鍍膜和光學(xué)鍍膜有什么區(qū)別

    一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

  • 【光學(xué)鍍膜】光學(xué)鍍膜原理

    光學(xué)鍍膜? ? ?光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。在可見(jiàn)光和紅外線波段范圍內(nèi),大多數(shù)金屬的反射率都可達(dá)到78%~98%,但不可**98%。無(wú)論是對(duì)于CO 2激光,采用銅、鉬、硅、鍺等來(lái)制作反

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